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Title: HF-CVD di film di diamante policristallino su substrati in metallo duro: adesione superficiale, resistenza all'usura, sforzi in lavorazione
Other Titles: HF-CVD of polycrystalline diamond film on metal hard substrates: surface adhesion, wear resistance, working stress
Authors: Tagliaferri, Vincenzo
Rubino, Gianluca
Keywords: carburo di tungsteno
diamante
letto fluido
CVD
PVD
interlayer
Issue Date: 28-Apr-2009
Abstract: La crescita di un film di diamante di buona struttura e sufficiente adesione, con spessori significativi (fino a 30-50 µm), su un substrato con sufficiente tenacità da resistere alle sollecitazioni meccaniche dei processi di lavorazione, è un problema non ancora risolto completamente. Il rivestimento in diamante è tra i più interessanti, in quanto l’elevata durezza è abbinata alle proprietà di autolubrificazione, il che equivale a dire minor attrito e quindi una maggiore resistenza all’usura. Un ottimo substrato per la deposizione del film di diamante è il sinterizzato in Carburo di Tungsteno, in quanto l’elevata durezza è combinata all’ottima tenacità del legante che ne massimizza le proprietà meccaniche, inoltre, la vasta diffusione ha ormai reso piuttosto competitivo il prezzo. Di contro, la deposizione di strati di diamante su substrati in WC-Co è complessa; il legante Co ha un effetto nocivo sul processo, portando alla formazione di uno strato grafitico nelle prime fasi della de...
Description: 21. ciclo
URI: http://hdl.handle.net/2108/872
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